The 2nd International Symposium on SIMS and Related Techniques has been held on November 8-9, 2002 at Seikei University.
SIMS新技術WG 国際シンポ(初日)
「第2回SIMS及び関連技術の新しい流れ国際シンポジウム」
Opening 9:25-9:30 Seikei Univ. M. Kudo
Recent Topics in Materials Characterization
1 Complimentary Use of MEIS and SIMS for Ultrathin Film Analysis 9:30-10:30 Korea Research Inst. of Standards and Science D. W. Moon
2 Wettability and Microstructures of Ni-Al/TiCx System 10:30-11:30 Chinese Academy of Science D. H. Shen, H. Lu, Univ. of Sci. and Tech. of Beijing X. Wu, Ben Gurion Univ. of the Negev N. Froumin, M. Polak
3 In-Situ Surface Analysis by Coaxial Impact-Collision Ion Scattering Spectroscopy (CAICISS) and Time-of-Flight Elastic Recoil Detection Analysis (TOF-ERDA) 11:30-12:00 Osaka Univ. M. Katayama, T. Fujino, K. Oura
D-SIMS and Related Techniques
4 A Floating Type Compact Low Energy Ion Gun for Shallow Dopant Depth Profiling 13:00-13:30 Osaka Univ. T. Matsunami, K.Iwamoto, T. Nagatomi, Y. Kimura, Y. Takai, Osaka Inst. Tech. R. Shimizu, A&D Company LTD R. Aihara, Y. Sakuma
5 SPIRIT – Using Advanced Lasers for Sensitive Surface Analysis 13:30-14:30 Univ. of Newcastle B. King
(Coffee Break : 14:30-15:00 )
6 Hydrogen Distributions Near SiO2-Si Interface 15:00-15:30 NEC Corp. Y. Kawashima, Z. Liu, H. Kawano, Seikei Univ. M. Kudo
7 HEstablishing Accuracy in Ultra-Shallow profiling 15:00-15:30 Univ. of Warwick M. Dowsett
Poster Session 16:30-18:30 (Drink Party : 17:00-18:30 )
11月9日(木) SIMS新技術WG 国際シンポ(2日目)
Application of TOF-SIMS Analysis
8 Semiconductor Applications of TOF-SIMS 9:30-10:30 CE&A P. Lindely
9 High Resolution TOF-SIMS 10:30-11:30 Tascon B. Hagenhoff
SIMS Application to Bio-science and Earth Science
10 Ion Microscopy for The Element and Molecule Distribution in Fine Structures of The Cell and Tissue on Fresh Frozen Dried Ultrathin Sections 11:30-12:00 Toyama Med. and Pharmaceutical Univ. K. Takaya, H. Li, M. Okabe, T. Yoshida, Nagasaki Univ. H. Gong
11 Isotope Imaging by Charged-Particle 2-D Sensor Equipped with SIMS 12:00-12:30 Tokyo Inst. Tech. H. Yurimoto, T. Kunihiro, K. Nagashima
Recent Topics in SIMS Instrumentation and its Application
12 Recent Atomika Quad-SIMS Developments 13:30-14:30 ATOMIKA J. L. Mau
(Coffee Break : 14:30-15:00 )
13 What’s new in SIMS at Physical Electronics? 16:20-16:40 Physical Electronics S. Bryan
14 The CAMECA SC-ULTRA and the CAMECA SHALLOW PROBE: Two Complementary Analytical Tools for Semiconductors Characterization 16:40-17:00 CAMECA M. Schuhmacher
4. 懇親会について
第1日目の研究会終了後、榊賞授賞式および懇親会を催しますので、多数ご参加下さい。なお、会費3,000円を当日会場受付にてお支払い下さい。
5. その他
- 今回の担当幹事は、ファインセラミックスセンター・平山司と東大生研・石井秀司の2名です。今回のプログラムアドバイザーはNTTの本間芳和委員(国際標準化WG座長・運営幹事)が務めます。
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■参加登録：（参加費： 一般 ５千円、学生 ２千円）
現地での参加可能人数に制限があるため、開催当日の現地での参加登録はできません。あらかじめ12/3(金)までに参加登録をお願いいたします。
尚、COVID-19の状況により、オンライン開催のみの可能性もあります（１０月末に決定予定）
下記より、参加方法（現地 or オンライン）とお支払い方法（PayPal or クレジットカード）を選択して下さい。
（現地参加は先着50名）
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